芬蘭VAISALA維薩拉INDIGO80手持顯示表,DMP80手持露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體晶圓制造，超純氣體的純度，以及潔凈室的壓差，優(yōu)化并實(shí)時(shí)測(cè)量濕化學(xué)品的濃度應(yīng)用案例

芬蘭VAISALA維薩拉硅芯片是運(yùn)用先進(jìn)的知識(shí)并使用先進(jìn)的機(jī)器和工藝制造的。成功的流程背后是高性能的監(jiān)測(cè)和測(cè)量?jī)x器。

每個(gè)硅芯片都應(yīng)該按預(yù)期發(fā)揮作用，并且在制造時(shí)使用適量的材料、能源和其他資源。

通過高質(zhì)量的測(cè)量保證成功

從濕到干再從干到濕

從半導(dǎo)體晶圓制造、微電子制造到半導(dǎo)體封裝，為您的關(guān)鍵處理步驟配備值得信賴且可靠的測(cè)量，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量、可預(yù)測(cè)性、成本效益和穩(wěn)定的質(zhì)量。

我們提供測(cè)量濕度、露點(diǎn)儀儀、溫度、壓力和濕化學(xué)品濃度的儀表。每種產(chǎn)品都會(huì)生成有關(guān)制造環(huán)境的精確數(shù)據(jù)，并提供良好的準(zhǔn)確性、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和快速的響應(yīng)時(shí)間，以優(yōu)化流程，提高產(chǎn)量和安全性，生產(chǎn)性能良好的芯片。

有鑒于此，可以說維薩拉是半導(dǎo)體制造商和 MEMS 代工廠、半導(dǎo)體設(shè)備制造商和 OEM、晶圓廠運(yùn)營(yíng)商和材料供應(yīng)商理想的測(cè)量合作伙伴。

從前端到后端一直到客戶，我們?yōu)槟峁┑姆?wù)。

選擇維薩拉的理由

專為半導(dǎo)體制造而設(shè)計(jì)

維薩拉提供的產(chǎn)品和恰當(dāng)?shù)膮?shù)，為半導(dǎo)體制造提供穩(wěn)定的測(cè)量。

產(chǎn)品設(shè)計(jì)保證測(cè)量精度

選擇具有支持生態(tài)系統(tǒng)的產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的擁有成本和極低的生命周期成本。

避免風(fēng)險(xiǎn) — 從濕到干，選擇可靠的產(chǎn)品

維薩拉的產(chǎn)品涵蓋整個(gè)測(cè)量范圍，以及從濕到干所需的一切，包括適用于特定應(yīng)用的產(chǎn)品。

半導(dǎo)體制造應(yīng)用

潔凈室、暖通空調(diào)系統(tǒng)的環(huán)境測(cè)量

通過空調(diào)系統(tǒng) (HVAC) 控制濕度

濕度水平也會(huì)影響半導(dǎo)體制造過程。濕度過高會(huì)導(dǎo)致敏感設(shè)備上出現(xiàn)凝結(jié)現(xiàn)象，從而可能導(dǎo)致半導(dǎo)體器件出現(xiàn)缺陷。精密空調(diào)系統(tǒng)有助于控制濕度水平并發(fā)揮預(yù)防作用。

利用耐用產(chǎn)品清洗晶圓

晶圓清洗是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵流程，用于去除硅晶圓表面的污染物、顆粒和殘留物。該流程確保集成電路 (IC) 和其他半導(dǎo)體器件的可靠性和功能性。

更高的耐用性

清潔劑可能包含酸、各種溶劑和水，可能存在這些殘留物，因此需要測(cè)量探頭具有更高的耐用性。

維薩拉提供耐腐蝕探頭，并且不含金屬接液部件，專為晶圓清洗流程而設(shè)計(jì)，可耐受高濕度和刺激性化學(xué)物質(zhì)。

確保清洗后的芯片干燥以防止污染和顆粒粘附非常重要。

光刻中的晶圓步進(jìn)機(jī)

光刻中的晶圓步進(jìn)機(jī)是集成電路 (IC) 和其他半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中的另一個(gè)關(guān)鍵處理步驟。在這個(gè)步驟中，將光圖案投射到涂有感光材料（光刻膠）的硅晶圓上，從而將所需的圖案蝕刻到晶圓上。因此，一些光刻區(qū)域的濕度公差可能嚴(yán)格控制在 ±1% 范圍內(nèi)。

溫度控制可使晶圓圖案保持零變化

步進(jìn)機(jī)中的質(zhì)量測(cè)量探頭可提供穩(wěn)定的溫度測(cè)量，并防止晶圓因溫度波動(dòng)而導(dǎo)致圖案尺寸發(fā)生變化。晶圓圖案尺寸錯(cuò)誤會(huì)對(duì)半導(dǎo)體器件的整體質(zhì)量和性能產(chǎn)生不利影響。

濕度控制確保光學(xué)元件穩(wěn)定性

晶圓步進(jìn)機(jī)依靠精密的光學(xué)系統(tǒng)將圖案投射并蝕刻到晶圓上。任何溫度或其他環(huán)境條件的變化都會(huì)影響這些光學(xué)器件的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。

氣壓控制可確保精確的光刻和流程穩(wěn)定性

測(cè)量氣壓對(duì)于光刻流程的光學(xué)精度和準(zhǔn)確度至關(guān)重要，因?yàn)闅鈮褐苯佑绊懣諝獾恼凵渎?，進(jìn)而影響晶圓步進(jìn)機(jī)的光學(xué)元件性能和光刻光的波長(zhǎng)。

焦點(diǎn)和深度控制

使用快速、準(zhǔn)確的測(cè)量?jī)x表測(cè)量和控制氣壓來防止圖像失焦。

通過濕度控制保持芯片探針臺(tái)不結(jié)冰

晶圓探針臺(tái)通過測(cè)試芯片來識(shí)別有缺陷的晶圓。測(cè)試在低至 -40 攝氏度的低溫下進(jìn)行，以確保芯片能夠在極端溫度下正常工作，例如，如果以后打算在車輛中使用的話。

測(cè)試環(huán)境必須保持干燥，露點(diǎn)儀儀溫度低于 -40 攝氏度，這樣芯片上就不會(huì)有冰沉積，否則回到室溫條件時(shí)，冰會(huì)變成水并在芯片上聚集雜質(zhì)。

維薩拉為芯片探針臺(tái)提供精確的露點(diǎn)儀儀探頭。

了解 DMT143

保持超純氣體的純度

保護(hù)昂貴的過程氣體免受濕氣污染。氣體質(zhì)量影響芯片質(zhì)量，因?yàn)榧词故俏⒘康碾s質(zhì)也會(huì)導(dǎo)致缺陷或故障。水分會(huì)與某些材料發(fā)生反應(yīng)或在氧化等過程中引入缺陷。

快速反應(yīng)的探頭將快速檢測(cè)到任何水分，并在達(dá)到設(shè)定的限值時(shí)發(fā)出警報(bào)。

了解 DMT152

確保潔凈室的壓差

使用我們靈敏的探頭，可輕松將潔凈室的壓差保持在 ISO 14644 標(biāo)準(zhǔn)。使用維薩拉的模塊化 Indigo 系統(tǒng)，您可以將壓差和濕度測(cè)量探頭連接到同一個(gè) Indigo 變送器。

了解我們的壓差探頭 PDT101 和 PDT102。

維薩拉 PDT101

維薩拉 PDT102

優(yōu)化并實(shí)時(shí)測(cè)量濕化學(xué)品的濃度

半導(dǎo)體晶圓廠在整個(gè)制造過程中要消耗數(shù)以噸計(jì)的化學(xué)品。確保每種化學(xué)品的可靠性，避免可能導(dǎo)致昂貴的設(shè)備污染和晶圓廢品的規(guī)格偏離。

晶圓廠化學(xué)工藝監(jiān)測(cè)

內(nèi)容和客戶案例

Expert article

Boost wafer quality and yield through data-driven real-time slurry management

The composition of the slurry used in the chemical mechanical polishing (CMP) processing step greatly impacts wafer quality. Vaisala's inline process refractometers enable real-time monitoring of slurry composition, ensuring batch-to-batch consistency and optimal wafer quality.

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專業(yè)文章

如何改進(jìn)極端干燥環(huán)境中的濕度測(cè)量

流程工業(yè)高純氣體案例

純氣體生產(chǎn)或半導(dǎo)體制造等某些要求嚴(yán)苛的工業(yè)流程，需要非常精確地測(cè)量微量水分含量。

案例

超越所見，不負(fù)所托

隨著市場(chǎng)環(huán)境的優(yōu)化升級(jí)和國(guó)家政策的有利驅(qū)動(dòng)，新能源汽車、智能駕駛、智能終端和5G等下業(yè)對(duì)集成電路的需求激增。而作為典型的高精尖產(chǎn)業(yè)，集成電路的制造對(duì)生產(chǎn)環(huán)境和工藝的要求極為苛刻。其中，潔凈室的建設(shè)是集成電路制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，對(duì)終產(chǎn)品的性能具有至關(guān)重要的影響。

信息

維薩拉是許多半導(dǎo)體制造廠測(cè)定鎢的 CMP 研磨液中 H2O2 濃度的儀器供應(yīng)商

維薩拉 K?PATENTS 半導(dǎo)體行業(yè)用折光儀為半導(dǎo)體制造環(huán)境設(shè)計(jì)。該儀器尺寸小且不含金屬，因此適合在不影響工藝的情況下測(cè)量化學(xué)物質(zhì)。

eGuide

Understand and utilize real-time data in CMP process

Accurate and fast RI and RH measurements for optimized CMP tool performance

Did you know that the refractive index or RI measurement with an inline process refractometer is a safe, cost-effective,

real-time, low-maintenance process monitoring method to accurately determine wet chemical concentrations?

Learn more

Blog

Quality semiconductor products need quality machinery enhanced with the best monitoring equipment

In this blog, we look at Vaisala’s range of humidity and pressure sensors that ensure accurate measurements for manufacturers of the machines used to produce semiconductors.

水分是半導(dǎo)體制造過程中影響較大的污染物之一 —— 準(zhǔn)確測(cè)量水分、濕度和溫度

為避免產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量出現(xiàn)問題，在半導(dǎo)體制造過程中必須尤為謹(jǐn)慎地監(jiān)測(cè)濕度和溫度水平。維薩拉的高精度測(cè)量解決方案適用于制造工藝流程中的關(guān)鍵步驟，響應(yīng)非常迅速，且能夠適應(yīng)各種環(huán)境條件。

Webinar

Optimize Wafer Quality and Yield with Real-time Data During the CMP Process

Register for this webinar to learn why Vaisala process refractometers have been installed by hundreds of semiconductor manufacturers worldwide. We’ll review the technology behind our measurement solutions and share common applications before sharing sample use cases from fabricators.

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在線研討會(huì)

保障半導(dǎo)體和電池制造的正常產(chǎn)出

在半導(dǎo)體和電池制造工藝流程中，雜質(zhì)會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量大幅下降。尤其是水污染，因?yàn)樗终舭l(fā)產(chǎn)生的熱量和膨脹產(chǎn)生的壓力會(huì)引起各種問題，從而導(dǎo)致半導(dǎo)體和電池的質(zhì)量和性

能下降。

Indigo80 手持式顯示表頭

適用于對(duì) Indigo 兼容探頭進(jìn)行便攜式測(cè)量

用于現(xiàn)場(chǎng)采樣和校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)分析和診斷

Indigo 數(shù)據(jù)處理單元和探頭系列中的新成員 Indigo80 是一款緊湊型手持式顯示表頭和數(shù)據(jù)記錄儀。Indigo80 適合用于現(xiàn)場(chǎng)采樣、數(shù)據(jù)分析和診斷，可以測(cè)量多項(xiàng)參數(shù)：

濕度

溫度

露點(diǎn)儀

二氧化碳

汽化過氧化氫

油中微量水分

DMP80 DRYCAP? 手持式露點(diǎn)儀和溫度探頭

用于抽查和校準(zhǔn)露點(diǎn)儀測(cè)量

DMP80 探頭與 Indigo80 手持式設(shè)備兼容。DMP80 是 Indigo 系列探頭和數(shù)據(jù)處理單元中的一員，它經(jīng)過優(yōu)化，可在多種溫度和壓力下執(zhí)行過程露點(diǎn)儀測(cè)量的便攜式數(shù)據(jù)記錄和測(cè)量抽查。DMP80 能經(jīng)受顆粒物污染、冷凝、油蒸氣和大多數(shù)化學(xué)品，響應(yīng)時(shí)間短，長(zhǎng)期穩(wěn)定，在動(dòng)態(tài)和低露點(diǎn)儀應(yīng)用中性能良好。要進(jìn)行設(shè)備分析和配置，可以將 HMP80 探頭連接到維薩拉 Insight 軟件 Windows? 版。

智能型露點(diǎn)儀和溫度探頭 DMP8

（用于小于 40 bar 的帶壓管道，可調(diào)整安裝深度）

維薩拉 DRYCAP? 智能型露點(diǎn)儀和溫度探頭 DMP8 設(shè)計(jì)用于壓力不超過 40 bar 的工業(yè)低濕度應(yīng)用，典型應(yīng)用包括工業(yè)干燥、壓縮空氣系統(tǒng)和半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用。

DMP8 本身帶 1/2 英寸 NPT 或 ISO 螺紋的螺栓，可調(diào)整插入深度。使用可選的球閥安裝套件，在帶壓情況下可將探頭插入壓力管路中或者從該管路中拔出探頭。

智能型 DMP8 屬于 Indigo 系列產(chǎn)品，與 Indigo500 變送器和 Indigo200 變送器兼容。它可以與維薩拉 Insight 電腦軟件一起使用，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)可視化、輕松設(shè)置探頭和自我校準(zhǔn)。

Dew Point and Temperature Probe DMP8 with Adjustable Installation Depth for Pressurized Pipelines <40 bars

特點(diǎn)

露點(diǎn)儀測(cè)量范圍為 -70 ... +80 °C (-94 ... +176 °F)

露點(diǎn)儀測(cè)量準(zhǔn)確度高達(dá) ±2 °C (±3.6 °F)

工作壓力為 0 ... 4 MPa (0 ... 40 bar)

溫度準(zhǔn)確度高達(dá) 0.1 °C (0.18 °F)

耐受冷凝、油污、灰塵和大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)

傳感器提供良好的化學(xué)物質(zhì)耐受性

包括可溯源的 3 點(diǎn)校準(zhǔn)證書

支持 RS-485 的 Modbus RTU 通訊協(xié)議，提供多樣、靈活的連接方式

與 Indigo 系列變送器兼容

校準(zhǔn)間隔長(zhǎng)達(dá)兩年，減少維護(hù)量

主要優(yōu)點(diǎn)

針對(duì)帶壓管路而設(shè)計(jì)

智能型 DMP8 設(shè)計(jì)用于工業(yè)應(yīng)用中的低濕度帶壓管道中測(cè)量露點(diǎn)儀。

工作壓力為 0 ... 4 MPa (0 ... 40 bar)。

由于采用滑動(dòng)密封設(shè)計(jì)，可以輕松調(diào)整探頭安裝深度。使用球閥安裝套件時(shí)，可以輕松從帶壓過程中插入或拔出探頭。

低露點(diǎn)儀下的快速反應(yīng)時(shí)間和穩(wěn)定性

維薩拉 DRYCAP? 傳感器不受顆粒、冷凝水、油霧和大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)的影響。該傳感器可抗冷凝，即使處于液態(tài)水中環(huán)境下，仍可很好地恢復(fù)并正常工作?？焖俚姆磻?yīng)時(shí)間使它在動(dòng)態(tài)低露點(diǎn)儀應(yīng)用中也能提供良好的性能，而且它具有高穩(wěn)定性，可以提供較長(zhǎng)的校準(zhǔn)間隔（兩年）。

使用或與 Indigo 變送器一起使用

智能型 DMP8 屬于維薩拉 Indigo 系列產(chǎn)品，因此它還可以與維薩拉 Indigo200 變送器一起使用。這些變送器還具備其他功能，例如可直觀地展示數(shù)據(jù)的顯示屏，易于訪問以便進(jìn)行探頭設(shè)置，還提供針對(duì)自動(dòng)化系統(tǒng)連接、電源電壓和配線的更多選項(xiàng)。

內(nèi)置的 RS-485 的 Modbus RTU 通訊協(xié)議意味著 DMP8 既可作為設(shè)備使用，也可以輕松集成到第三方系統(tǒng)。

在使用 DMP8 或?qū)⑵渑c Indigo 變送器一起使用時(shí)，它可以連接到維薩拉 Insight 軟件，以便輕松進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)、探頭配置和設(shè)備分析。